激光加热硅晶片

应用ID:13835


随着时间的流逝,径向进入和流动的激光器会加热硅晶片。此外,晶圆本身在其舞台上旋转。来自激光器的入射热通量被建模为表面上的空间分布热源。显示了晶片的瞬态热响应。计算加热过程中的峰,平均温度和最低温度,以及整个晶片的温度变化。

此模型示例说明了这种类型的应用程序,该应用程序名义上使用以下产品构建:乐动体育app无法登录