沟渠中的铜沉积
应用ID:2112
该模型证明了在电路板上应用铜电沉积时使用移动网格。在这些环境中,腔或“沟渠”的存在是显而易见的。
该模型利用第三纪的Nernst-Planck界面进行电沉积,以跟踪网格的变形。此外,通过使用管状volmer方程进行铜沉积,电化学反应动力学是在边界上自由输入的。
该模型固有地依赖于时间,结果清楚地表明,由于铜的不均匀沉积,沟渠的口变窄。此外,模拟显示沿沟渠长度的铜离子浓度有很大变化。这种影响可能不利于沉积的质量,产生腐蚀可能性并导致物质浪费。
此模型示例说明了这种类型的应用程序,该应用程序名义上使用以下产品构建:乐动体育app无法登录
但是,可能需要其他产品来完全定义和建模。乐动体育app无法登录此外,也可以使用以下产品组合中的组件来定义和建模此示例:
- comsol多物理学®和
- 要么电池设计模块,,,,腐蚀模块, 或者电沉积模块
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