电容性等离子体分析
Luke T. Gritter，Sergei Yushanov，Jeffrey S. Crompton和Kyle C. KoppenhoeferAltasim技术
哥伦布，哦
Altasim Technologies提供涉及高级多物理学建模的工程咨询服务，例如电容耦合等离子体（CCP）。薄膜的血浆蚀刻和沉积，高级微电器设备的生产中的关键过程，通常使用CCP，其中血浆由两个或多个电极之间的振荡电场启动和维持。
由于血浆的动态行为以及达到周期性稳态所需的大量RF循环，CCP的分析很困难。通过使用COMSOL多物理学对轴对称CCP反应器进行低频RF放电的一维射频放电的一维模拟，Altasim Technologies开发了模拟，可用于帮助开发新的CCP处理技术。
来自CCP工艺的2D模拟鞘区的电子温度。
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- altasim_plasma_cn2011.pdf- 0.43MB