石墨烯:第四第四部分

2013年5月2日

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将将带给大众的

在之前篇博客,我我提到提到石墨烯石墨烯它的一些,以及comsolMultiphysics®软件软件可用来种特殊材料应用一些模拟模拟工具。。要要将石墨烯正式正式投入投入投入,我们我们我们我们我们我们面临的一一一大障碍通过通过是通过通过生产生产,包括剥离在基底上外延生长,氧化还原,或,或,或金属-碳碳熔融

在在篇为为Pt(111)上上上实现石墨烯膜烯膜的生长生长”的论文,作者解释了在高真使用热分解制造。我的的的的的同事的的的的什么是分子流“”中曾,目前目前有模拟工具高真空系统真空真空真空真空与长度,热力学长度尺度长度热力学效应相当。。的压力压力主要取决于真空系统中中相对于分子源分子源与与汇的视线视线。论文,,,因此前设计的优化无疑大幅大幅降低。。论文论文中对对表面表面表面通量通量及及沉积沉积沉积进行进行了了进行进行了

您您快能模拟高系统

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编者:“”分子流”于2013年5月3日日发布。发布

为什么为什么模拟真空系统

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真空真空与石墨烯的相关相关

为了模拟位于复杂几何上的的基底等沉积速率流和流和流和,我们我们温分子温分子温分子温分子流和等温分子温分子等流和我们我们需要需要需要一一一高级模拟高级模拟模拟模拟方法。。。。由于由于由于气体与与与表面系统中决定。因此需要求解个个的方程方程方程计算计算计算系统系统系统系统中中中中的的分子分子通量通量通量通量通量,,热通量,,压力压力通量,,,,,,热通量中中中中中中以及沉积膜沉积膜厚度

让让看几个模拟。

1:计算金计算金镀膜的厚度厚度

在2000k的温度,通过通过将个放置固定固定表面的基底上计算了了基底及腔室腔室壁壁

在comsol多物理学中中模拟的的的
分子流计算可以上的热蒸镀的均匀性及沉积速率沉积速率

2:负载负载系统晶圆片的与解吸与解吸

((((())分隔(下图),具有500l/s的恒定速度

在comsol多物理学中中模拟的的的
对低压吸附吸附和解吸的瞬态仿真当负载锁定的闸阀闸阀闸阀,水水闸阀的的的的的的的的的的的的的的闸阀的的的

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