离子植入真空系统中的分子流动
应用ID：10011
离子植入器评估器应用程序考虑了离子植入系统的设计。离子植入在半导体工业中广泛使用将掺杂剂植入晶片。
在离子植入器中，在离子源内产生的离子被电场加速以实现所需的植入能。通过分离磁体选择正确的电荷状态的离子，该离子弯曲离子光束以确保特定电荷与质量比的离子是唯一到达晶片的离子。离子束的能量剂量和角度都是该过程的关键参数。
该应用程序允许用户更改晶片的角度以及超出品种的分子量，吹口速率和表面温度。还可以调整冷冻速度和涡轮泵的速度。
可以看到数量密度，压力，分子通量以及沿梁线的平均数量密度。
此模型示例说明了这种类型的应用程序，该应用程序名义上使用以下产品构建：乐动体育app无法登录
但是，可能需要其他产品来完全定义和建模。乐动体育app无法登录此外，也可以使用以下产品组合中的组件来定义和建模此示例：
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