超高真空，化学蒸气沉积
应用ID：21711
化学蒸气沉积（CVD）是在半导体工业中经常使用的过程，用于在晶圆底物上种植高纯度固体材料层。CVD使用许多不同的技术以及从大气到超高真空（UHV/CVD）的一系列压力实现。
UHV/CVD以低于10-6 PA（10-8 TOR）的压力进行，因此通过分子流量来实现气体传输，并且缺乏任何流体动力效应，例如边界层。此外，由于分子碰撞的频率低，也没有涉及气相化学，因此生长速率将由物种的数量和表面分子分解过程确定。
该模型使用多种物种，自由分子流来模拟硅晶片的生长。探索了几个抽水曲线的效果。
此模型示例说明了这种类型的应用程序，该应用程序名义上使用以下产品构建：乐动体育app无法登录
但是，可能需要其他产品来完全定义和建模。乐动体育app无法登录此外，也可以使用以下产品组合中的组件来定义和建模此示例：
comsol的组合®乐动体育app无法登录建模应用所需的产品取决于几个因素，可能包括边界条件，材料属性，物理界面和部分库。特定功能可能是几种产品的共同点。乐动体育app无法登录要确定适合您的建模需求的产品组合，请查看乐动体育app无法登录规格图并使用免费评估许可证。这comsol销售和支持团队可用于回答您对此可能遇到的任何问题。