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分子流块模块X
超高真空，化学蒸气沉积
化学蒸气沉积（CVD）是在半导体工业中经常使用的过程，用于在晶圆底物上种植高纯度固体材料层。CVD使用许多不同的技术以及从大气到超高真空（UHV/CVD）的一系列压力实现。...阅读更多
离子植入真空系统中的分子流动
离子植入器评估器应用程序考虑了离子植入系统的设计。离子植入在半导体工业中广泛使用将掺杂剂植入晶片。在一个离子植入器中，在离子源内产生的离子被电场加速到...阅读更多
负载锁真空系统中的水吸附和解吸
该模型显示了如何在低压下真空系统中水在水中的时间依赖性吸附和解吸。当打开门阀到负载锁时，将水引入系统，然后对水的随后迁移和抽水进行建模。阅读更多
分子流经微毛细血管的流动
计算任意几何形状中的分子流产生的复杂积分方程非常难以分析。因此，分析溶液仅适用于简单的几何形状。最早解决的问题之一是气体流过...阅读更多
充电交换单元格模拟器
电荷交换单元由真空室内高压处的气体区域组成。当离子束与高密度气体相互作用时，离子会与气体进行电荷交换反应，然后产生能量的中性颗粒。很可能只有...阅读更多
